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Da fällt nichts durchs Raster!

Mit den jüngsten Mitgliedern der EVO-Produktfamilie stellt ZEISS die neue Generation seines bewährten leistungsstarken Rasterelektronenmikroskops (REM) vor, die Verbesserungen hinsichtlich der Bedienbarkeit, Bildqualität und nahtlosen Integration in multimodale Arbeitsprozesse bringen soll.

29.11.2017
Zeiss_EVO_ferrocerium-particle
Zeiss_EVO_ferrocerium-particle

Dank der Vielfalt der verfügbaren Optionen sollen die Geräte der ZEISS EVO-Familie präzise auf die Anforderungen in den Bereichen Biowissenschaft und Materialwissenschaft abgestimmt werden können sowie bestens für eine routinemäßige industrielle Qualitätssicherung geeignet sein. Die Mikroskop-Spezialisten aus Jena kündigen an, dass ZEISS EVO selbst unter schwierigen Bedingungen hochwertige Daten liefern wird, beispielsweise auch dann, wenn nichtleitende Teile während der industriellen Qualitätssicherung für die Übertragung von einem Instrument zum nächsten unpräpariert bleiben müssen oder Proben wie zu klassifizierende Pollen in ihrem natürlich hydrierten Zustand abgebildet werden sollen.

Für derlei Anforderungen soll ZEISS EVO mit unterschiedlichen Vakuummodi, wie Hochvakuum, variabler Druck und hoher Druck sowie mit unterschiedlichen Detektortechnologien (SE, C2D, C2DX, BSE, EDS) gut gerüstet sein. Auch sorgt ein optionaler Lanthanhexaborid-Emitter (LaB6) dafür, einen helleren Elektronenstrahl für eine bessere Bildauflösung und Rauschunterdrückung zu erzeugen. Dank einer intuitiven, benutzerfreundliche Handhabung soll ZEISS EVO sowohl für geschulte als auch für unerfahrene Mikroskop-Anwender geeignet sein. "Die neue ZEISS SmartSEM Touch-Benutzeroberfläche von ZEISS EVO ist so übersichtlich, dass nicht nur geschulte Mikroskopierer, sondern auch unsere Techniker und Praktikanten ohne REM-Kenntnisse den Umgang in 20 Minuten erlernen können", berichtet beispielsweise Jim Suth, der als Qualitätsmanager bei ECR Engines in den USA im Bereich Produktion, Forschung und Entwicklung von Hochleistungsmotoren tätig ist und ZEISS EVO für die Materialcharakterisierung und Fehleranalyse nutzt. "Die Imaging- und Analysefunktion des Systems sind von großem Vorteil. Die nahtlose Integration in multimodale Arbeitsprozesse macht unsere Arbeit deutlich effizienter", sagt Suth.

Da die REM-Materialcharakterisierung für akademische oder industrielle Zwecke in vielen Umgebungen Teil eines Arbeitsprozesses ist, bei dem Proben mit anderen Imaging- oder Analysetechnologien wie Lichtmikroskopen oder Spektrometern untersucht werden, lässt sich ZEISS EVO als Teil eines halbautomatisierten, multimodalen Arbeitsprozesses konfigurieren. Denn ZEISS EVO verfügt über Tools, die interessante Regionen nahtlos wiederfinden und die Integrität von Daten über mehrere Verfahren hinweg sicherstellen. In derartigen Konfigurationen soll ZEISS EVO eine hochproduktive korrelative Mikroskopie und Analysemethoden ermöglichen, die Benutzern aussagekräftigere Daten und ein tieferes Verständnis ihrer Proben liefern.

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